沉积参数对磁控溅射镀金膜膜层残余应力与微观形貌的影响
刘明智, 梁康, 熊巍, 张国锐, 杨洋
Effect of Deposition Parameters on Residual Stress and Microstructure in Magnetron Sputtering Au Thin Films
LIU Ming-zhi, LIANG Kang, XIONG Wei, ZHANG Guo-rui, YANG Yang
导航与控制
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2020, (6): 98
-104
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DOI: 10.3969/j.issn.1674-5558.2020.06.013
