沉积参数对磁控溅射镀金膜膜层残余应力与微观形貌的影响

doi:10.3969/j.issn.1674-5558.2020.06.013

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导航与控制 ›› 2020, Vol. 19 ›› Issue (6) : 98-104. DOI: 10.3969/j.issn.1674-5558.2020.06.013

测试与计量

沉积参数对磁控溅射镀金膜膜层残余应力与微观形貌的影响

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Effect of Deposition Parameters on Residual Stress and Microstructure in Magnetron Sputtering Au Thin Films

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收稿日期	出版日期
2020-04-28	2020-12-05
发布日期
2021-03-02

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